影響真空滅弧室電位分布和電場分布
本文作者:大禹漢光 發布時間:2015-10-13
網友提問:對于真空滅弧室,影響其電位分布和電場分布的因素有哪些?
大禹答復:您好,影響真空滅弧室電位和電場分布的原因有很多,就比如主屏蔽罩的結構尺寸及多個屏蔽罩。有研究表明,真空滅弧室動靜觸頭之間、觸頭和屏蔽罩之間的電位變化比較顯著,滅弧室內部電場分布不均勻。隨著觸頭間隙距離,觸頭半徑及倒角部分曲率半徑的增大,觸頭表面有效面積將增大??梢哉f,在真空滅弧室內安裝多個屏蔽罩,可以改善內部電場分布。
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